四氟化碳是目前微電子工業(yè)中周量大的等離子體蝕刻氣體，廣泛用于硅、二氧化硅等薄膜村料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)等方面也有大量應(yīng)用。而四氟化碳又是一種很重要的溫室氣體，在生產(chǎn)和使用過程中，通過擴散并釋放到大氣中，破壞臭氧層。四氟化碳?xì)怏w標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)是在溫室氣體監(jiān)測中進(jìn)行化學(xué)量值傳遞的重要組成部分，對我國環(huán)境科學(xué)及經(jīng)濟(jì)發(fā)展具有重要的意義。四氟化碳標(biāo)準(zhǔn)氣體還可以應(yīng)用于三氟化氮、六氟化鎢等特種氣體分析檢測過程中，為提高特種氣體的純度，增強國際市場競爭力，提供計量基礎(chǔ)。

 

     其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。對于硅和二氧化硅體系，采用CF4-H2反應(yīng)離子刻蝕時，通過調(diào)節(jié)兩種氣體的比例，可以獲得45：1的選擇性，這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時很有用。

 

    在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。

 

　　由于化學(xué)穩(wěn)定性極強，CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。

 

　　四氟化碳的溶氧性很好，因此被科學(xué)家用于超深度潛水實驗代替普通壓縮空氣。目前已在老鼠身上獲得成功，在275米到366米的深度內(nèi)，小白鼠仍可安全脫險。